最近，媒体报道说，ASML在2023年底向英特尔提供了第一台光刻机器EUV High-NA。该行业通常认为，高NA NA的Euvography技术将在高级芯片的开发和下一代处理器的生产中发挥关键作用。但是，这种情况似乎最近发生了变化，使几家铸造公司能够减少对NA中EUV高点的依赖，并延迟引入新技术。最近，投资机构已将ASML目标股的价格降低到每股795欧元，降至5％左右，低于每股759欧元，但减少了他们对2026 - 2027年利润的预后。但是，该机构仍然保持其“购买”评级，认为ASML的长期增长逻辑没有改变。股票价格设置的主要原因是高NA的EUV的需求（高grave开放的极端紫外线光刻机器）少于预期。银行美国预测，在2026年，ASML的EUV高NA运输只能是四个单位，比上述预期的50％少50％。行业分析已将芯片制造技术转变为新的晶体管结构（加菲特，CFET等），这些设计通过“包裹门”和雕刻过程减少了对光刻精确的依赖。因此，Fabs可以延迟NA中EUV的采用时间，而是优化了现有EUV设备的效率。尽管对EUV的高需求进行了短期调整，但投资机构对ASML的长期观点仍然乐观。 AI芯片的爆炸性增长（例如GPU和AI的加速器）驱动了对高级过程的需求，而ASML的EUV技术是低于3 nm的过程的关键手段。